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設備簡介:
多溫區(qū)CVD系統(tǒng)一體爐,供氣和真空系統(tǒng)靈活組合,滿足各類薄膜沉積,是半導體工業(yè)中應用為廣泛的用來沉積薄膜材料的技術,包括大面積的絕緣材料,以及大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。成套的CVD鍍膜系統(tǒng),適用于各大高校材料實驗室、科研院所、環(huán)??茖W等領域。
配置詳情:
1.采用高純石英或不銹鋼材質爐管,耐腐蝕耐高溫; 2.高純度Al2O3纖維耐火保溫材料,降低設備功耗; 3.爐體采用雙層風冷結構工藝,自動抬升系統(tǒng)開啟上蓋; 4.燒結工藝曲線設置:動態(tài)顯示設置曲線,設備燒結可預存多條工藝曲線,每條工藝曲線可自由設置; 9.一體化設備包含多路供氣系統(tǒng),多溫區(qū)加熱系統(tǒng)和高真空系統(tǒng); | |||||||||||||
產品溫區(qū) | 六溫區(qū) | ||||||||||||
爐管尺寸 | ?25/?50/?60/?80/?100*1600mm | ||||||||||||
工作溫度 | ≤1150℃ | ||||||||||||
加熱區(qū)選擇 (可定制) | 200mm*6 300mm*6 | ||||||||||||
升溫速率 | ≤20℃/s | ||||||||||||
電氣規(guī)格 | AC380V 12~18KW | ||||||||||||
氣體系統(tǒng)(可選購) | 浮子或質子 | ||||||||||||
管道示意圖 |
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進氣接口數(shù)量 | 2、3、4(多路可選) | ||||||||||||
流量范圍 | 20-250/20-800ml/min......(多量程可選) 50/100/200/500sccm......(多量程可選) | ||||||||||||
工作壓差范圍 | 0-0.15MPa | ||||||||||||
低真空系統(tǒng)(可選購) | 真空泵型號 | NBD-3C/NBD-4C | |||||||||||
抽氣速率 | 3L/s或4L/s | ||||||||||||
進排氣口尺寸 | KF16/25 | ||||||||||||
系統(tǒng)真空 | 3~5Pa(真空泵真空6.2*10-2Pa) | ||||||||||||
工作環(huán)境溫度 | 5-40℃ | ||||||||||||
電氣規(guī)格 | AC220V | ||||||||||||
高真空系統(tǒng)(可選購) | 真空泵型號 | NBD-103(A) | NBD-103(B) | ||||||||||
抽氣速率 | 110L/s | 600L/s | |||||||||||
真空測量計 | 復合真空計 | ||||||||||||
系統(tǒng)真空 | 4.310^-3Pa | 6*10^-4Pa | |||||||||||
工作溫度 | 5-40℃ | ||||||||||||
電氣規(guī)格 | AC 220V | AC 380V |